ターゲットの測定方法、基板、計測装置およびリソグラフィ装置[ja]

被引:0
申请号
JP20190503249
申请日
2017-07-07
公开(公告)号
JP2019523449A
公开(公告)日
2019-08-22
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
G03F9/00
IPC分类号
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[4]
[5]
トポグラフィ測定装置及びトポグラフィ測定方法[ja] [P]. 
REGIS BRAISAZ ;
PIERRE VERNHES .
日本专利 :JP2025086901A ,2025-06-09
[6]
リソグラフィ方法およびリソグラフィ装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP2018536907A ,2018-12-13
[7]
検査装置、リソグラフィ装置及び測定方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7430194B2 ,2024-02-09
[8]
検査装置、リソグラフィ装置及び測定方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2022521571A ,2022-04-11
[9]
ターゲット装置および孔の鉛直度測定方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6896584B2 ,2021-06-30
[10]
測定基板および測定方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6942224B2 ,2021-09-29