磁性記録媒体用スパッタリングターゲット[ja]

被引：0

申请号：

JP20140550564

申请日：

2014-05-23

公开(公告)号：

JPWO2014196377A1

公开(公告)日：

2017-02-23

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C23C14/34

IPC分类号：

B22F3/10 B22F3/14 B22F5/00 C22C5/04 G11B5/851

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日

法律状态

法律状态信息

共 50 条

[1]

磁性記録媒体用スパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014188916A1 ,2017-02-23

[2]

磁気記録媒体用スパッタリングターゲット及び磁性薄膜[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017141558A1 ,2018-10-11

[3]

磁性薄膜形成用スパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014185266A1 ,2017-02-23

[4]

強磁性材スパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JPWO2018047978A1 ,2018-10-18

[5]

磁性体薄膜形成用スパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016013334A1 ,2017-04-27

[6]

非磁性材粒子分散型強磁性材スパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JPWO2007080781A1 ,2009-06-11

[7]

多結晶シリコンスパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JPWO2013115289A1 ,2015-05-11

[8]

ターゲットの裏面に溝を備えた磁性材スパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JPWO2012011329A1 ,2013-09-09

[9]

非磁性材料分散型Ｆｅ−Ｐｔ系スパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JP6692724B2 ,2020-05-13

[10]

スパッタリングターゲット及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010101051A1 ,2012-09-06

← 1 2 3 4 5 →