膜形成用組成物、積層体、膜、シート基材、包装材、膜形成用組成物の製造方法、セルロース分散液の製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20130534712

申请日：

2012-09-18

公开(公告)号：

JPWO2013042654A1

公开(公告)日：

2015-03-26

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C08L1/02

IPC分类号：

B32B9/00 B32B23/02 B65D65/40 C08B15/02 C08B15/04 C08J7/043 C08J7/048 C08J7/052 C08K9/00 C08L101/14 C09D7/61 C09D201/00

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

膜形成用組成物、及び積層体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017217474A1 ,2019-02-14

[2]

膜形成用組成物、積層体、及び積層体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017217513A1 ,2019-02-28

[3]

銀鏡膜層形成用組成液の製造方法及び銀鏡膜層の形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP5950427B1 ,2016-07-13

[4]

セルロース組成物及びセルロース組成物の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6869395B1 ,2021-05-12

[5]

金属酸化物膜形成性組成物、金属酸化物膜形成性組成物の製造方法、及び金属酸化物膜形成性組成物を用いた金属酸化物膜の製造方法[ja] [P].

YAMAUCHI KENICHI ;

NODA KUNIHIRO ;

TAKAHASHI MICHIHITO ;

HARAGUCHI SAEKO ;

YAMANOUCHI ATSUSHI ;

SHIODA MASARU .

日本专利 :JP2024002084A ,2024-01-11

[6]

被膜の製造方法及び２液型の被膜形成用組成物[ja] [P].

日本专利 :JP7246465B1 ,2023-03-27

[7]

金属含有膜形成用組成物、金属含有膜形成用組成物の製造方法、半導体装置、及び半導体装置の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017200107A1 ,2019-02-14

[8]

組成物、接着シートの製造方法、接着シート、積層体の製造方法、及び積層体[ja] [P].

日本专利 :JPWO2015156193A1 ,2017-04-13

[9]

保護膜形成用組成物、保護膜形成用組成物の製造方法、パターン形成方法、および、電子デバイスの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017169569A1 ,2019-01-17

[10]

膜形成用組成物及び半導体基板の製造方法[ja] [P].

HAYASHI YUYA ;

YAMADA SHUHEI ;

YONEDA EIJI .

日本专利 :JP2023179038A ,2023-12-19

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