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酸化物焼結体、スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20210501924
申请日
:
2020-02-13
公开(公告)号
:
JPWO2020170949A1
公开(公告)日
:
2021-12-23
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C23C14/34
IPC分类号
:
C04B35/457
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
酸化物焼結体、スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020170950A1
,2021-12-23
[2]
酸化物焼結体、スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7359836B2
,2023-10-11
[3]
酸化物焼結体、スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7456992B2
,2024-03-27
[4]
酸化物スパッタリングターゲット、及び、酸化物スパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7028268B2
,2022-03-02
[5]
スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020066114A1
,2021-10-21
[6]
酸化物スパッタリングターゲット、及び酸化物スパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6414165B2
,2018-10-31
[7]
スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020261748A1
,2021-09-13
[8]
スパッタリングターゲット材、及びスパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP6557750B1
,2019-08-07
[9]
焼結体スパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012086388A1
,2014-05-22
[10]
酸化物スパッタリングターゲット、および、酸化物スパッタリングターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022105853A
,2022-07-15
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