酸化物焼結体、スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20210501924
申请日
2020-02-13
公开(公告)号
JPWO2020170949A1
公开(公告)日
2021-12-23
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C23C14/34
IPC分类号
C04B35/457
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[9]
焼結体スパッタリングターゲット[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2012086388A1 ,2014-05-22