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溶媒に安定な高分子膜の製造方法、高分子膜及び、高分子膜の製造のための溶液[ja]
被引:0
申请号
:
JP20160530196
申请日
:
2014-11-12
公开(公告)号
:
JP2016539785A
公开(公告)日
:
2016-12-22
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
B01D71/42
IPC分类号
:
B01D69/00
B01D69/02
B01D69/06
B01D69/08
B01D69/10
B01D69/12
B01D71/48
C08J3/24
C08J5/18
C08J9/26
D01F6/18
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
高分子膜の製造方法および高分子膜[ja]
[P].
日本专利
:JP5814074B2
,2015-11-17
[2]
高分子膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2020500974A
,2020-01-16
[3]
高分子膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7113194B2
,2022-08-05
[4]
高分子膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6947359B2
,2021-10-13
[5]
高分子膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6689076B2
,2020-04-28
[6]
高分子および高分子膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018135139A1
,2019-11-07
[7]
合成高分子膜および合成高分子膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6751731B2
,2020-09-09
[8]
配位高分子膜及び配位高分子膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7779512B2
,2025-12-03
[9]
高分子鎖の動態解析方法、高分子の製造方法、高分子、合成高分子の製造方法及び合成高分子[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014104172A1
,2017-01-12
[10]
高分子鎖の動態解析方法、高分子の製造方法、高分子、合成高分子の製造方法及び合成高分子[ja]
[P].
日本专利
:JP6061277B2
,2017-01-18
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