溶媒に安定な高分子膜の製造方法、高分子膜及び、高分子膜の製造のための溶液[ja]

被引:0
申请号
JP20160530196
申请日
2014-11-12
公开(公告)号
JP2016539785A
公开(公告)日
2016-12-22
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
B01D71/42
IPC分类号
B01D69/00 B01D69/02 B01D69/06 B01D69/08 B01D69/10 B01D69/12 B01D71/48 C08J3/24 C08J5/18 C08J9/26 D01F6/18
代理机构
代理人
法律状态
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共 50 条
[1]
高分子膜の製造方法および高分子膜[ja] [P]. 
日本专利 :JP5814074B2 ,2015-11-17
[2]
高分子膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2020500974A ,2020-01-16
[3]
高分子膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7113194B2 ,2022-08-05
[4]
高分子膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6947359B2 ,2021-10-13
[5]
高分子膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6689076B2 ,2020-04-28
[6]
高分子および高分子膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2018135139A1 ,2019-11-07
[7]
合成高分子膜および合成高分子膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6751731B2 ,2020-09-09
[8]
配位高分子膜及び配位高分子膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7779512B2 ,2025-12-03