プラズマエッチング方法[ja]

被引:0
申请号
JP20030582803
申请日
2003-04-07
公开(公告)号
JPWO2003085717A1
公开(公告)日
2005-08-18
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01L21/3065
IPC分类号
C23F1/00 H01L21/311 H01L21/768
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
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[5]
プラズマエッチング装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2014050903A1 ,2016-08-22
[6]
プラズマエッチング装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2011040147A1 ,2013-02-28
[7]
エッチング方法及びプラズマエッチング装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2003043072A1 ,2005-03-10
[8]
エッチング方法及びプラズマエッチング処理装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2003056617A1 ,2005-05-12
[10]
エッチング方法及びプラズマ処理装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP2023041914A ,2023-03-24