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エッチング方法及びプラズマ処理装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20230015296
申请日
:
2023-02-03
公开(公告)号
:
JP2023041914A
公开(公告)日
:
2023-03-24
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/3065
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
エッチング方法及びプラズマエッチング処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2003056617A1
,2005-05-12
[2]
プラズマエッチング方法及びプラズマエッチング装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2003085716A1
,2005-08-18
[3]
プラズマエッチング装置及びプラズマエッチング方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012133585A1
,2014-07-28
[4]
プラズマエッチング方法、及びプラズマエッチング装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012029554A1
,2013-10-28
[5]
プラズマエッチング方法及びプラズマエッチング装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013114882A1
,2015-05-11
[6]
プラズマエッチング方法及びプラズマエッチング装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014046083A1
,2016-08-18
[7]
エッチング方法及びプラズマエッチング装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2003043072A1
,2005-03-10
[8]
プラズマエッチング方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2003085717A1
,2005-08-18
[9]
プラズマエッチング装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014050903A1
,2016-08-22
[10]
プラズマエッチング装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011040147A1
,2013-02-28
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