モリブデンターゲットの製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20120536336

申请日：

2011-09-14

公开(公告)号：

JPWO2012043227A1

公开(公告)日：

2014-02-06

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C23C14/34

IPC分类号：

B22F1/00 B22F1/05 B22F1/14 B22F3/15 C22C1/04

代理机构：

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共 50 条

[1]

モリブデン合金管ターゲット材の調製方法、モリブデン合金管ターゲット材及び用途[ja] [P].

日本专利 :JP2025507240A ,2025-03-18

[2]

スパッタリングターゲットの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017115648A1 ,2017-12-28

[3]

酸化物焼結体スパッタリングターゲット及び同ターゲットの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010128629A1 ,2012-11-01

[4]

Ｃｕ−Ｔｅ合金系焼結体スパッタリングターゲットの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2013035695A1 ,2015-03-23

[5]

酸化物焼結体、同焼結体からなるスパッタリングターゲット、同焼結体の製造方法及び同焼結体スパッタリングターゲットゲートの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010004862A1 ,2011-12-22

[6]

酸化ランタン基焼結体、同焼結体からなるスパッタリングターゲット、酸化ランタン基焼結体の製造方法及び同製造方法によるスパッタリングターゲットの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010004861A1 ,2011-12-22

[7]

スパッタリングターゲットおよび膜の形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010074171A1 ,2012-06-21

[8]

スパッタリングターゲット−バッキングプレート組立体[ja] [P].

日本专利 :JPWO2011102359A1 ,2013-06-17

[9]

焼結体の製造方法、焼結体、当該焼結体からなるスパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲット−バッキングプレート組立体[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009034775A1 ,2010-12-24

[10]

酸化インジウム−酸化亜鉛系（ＩＺＯ）スパッタリングターゲット[ja] [P].

日本专利 :JP6125689B1 ,2017-05-10

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