共 50 条
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化合物、これを含むフォトレジスト組成物、これを含むフォトレジストパターン及びフォトレジストパターンの製造方法[ja]
被引：0
申请号：
JP20200539834
申请日：
2019-10-11
公开(公告)号：
JP7067831B2
公开(公告)日：
2022-05-16
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
C07C381/12
IPC分类号：
C07C309/12
C07C321/30
G03F7/004
G03F7/039
G03F7/20
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
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