学术探索
学术期刊
学术作者
新闻热点
数据分析
智能评审
投影光学系、露光装置、およびデバイスの製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20070503636
申请日
:
2006-02-10
公开(公告)号
:
JPWO2006087978A1
公开(公告)日
:
2008-07-03
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G02B17/00
IPC分类号
:
G02B17/06
H01L21/027
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
投影光学系、露光装置、およびデバイスの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2007023665A1
,2009-02-26
[2]
投影光学系、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5877965B2
,2016-03-08
[3]
投影光学系、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5621806B2
,2014-11-12
[4]
投影光学系、露光装置、およびデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5672424B2
,2015-02-18
[5]
投影光学系、露光装置、および、デバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6386896B2
,2018-09-05
[6]
投影光学系、露光装置、およびデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2007114024A1
,2009-08-13
[7]
投影光学系、露光装置、およびデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2007111104A1
,2009-08-06
[8]
投影光学系、投影光学系の調整方法、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012043130A1
,2014-02-06
[9]
投影光学系の製造方法、および、デバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6478593B2
,2019-03-06
[10]
投影光学系、投影露光装置、及びデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6511701B2
,2019-05-15
←
1
2
3
4
5
→