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セラミック体の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20100543770
申请日
:
2009-10-28
公开(公告)号
:
JPWO2010073456A1
公开(公告)日
:
2012-05-31
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01G4/12
IPC分类号
:
H01G4/30
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
セラミック成型体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008126919A1
,2010-07-22
[2]
セラミックスの製造方法[ja]
[P].
MORI HARUKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOSOH CORP
TOSOH CORP
MORI HARUKI
;
MATSUMURA YUJI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOSOH CORP
TOSOH CORP
MATSUMURA YUJI
;
ITO TAKESHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOSOH CORP
TOSOH CORP
ITO TAKESHI
;
SHIMOYAMA TOMOTAKA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOSOH CORP
TOSOH CORP
SHIMOYAMA TOMOTAKA
.
日本专利
:JP2024008439A
,2024-01-19
[3]
セラミック粉末、及びセラミック粉末の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2007119653A1
,2009-08-27
[4]
透明セラミックスの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2016021346A1
,2017-07-20
[5]
セラミック複合材料の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2018508446A
,2018-03-29
[6]
多層セラミック基板の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013001973A1
,2015-02-23
[7]
セラミック電子部品の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017187930A1
,2019-02-07
[8]
膜分離用セラミック支持体の製造方法[ja]
[P].
FUJITA KOTARO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
NIPPON TOKUSHU CERAM KK
NIPPON TOKUSHU CERAM KK
FUJITA KOTARO
.
日本专利
:JP2025118336A
,2025-08-13
[9]
セラミックス坏土、セラミックス成形体、セラミックス構造体及びこれらの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005095302A1
,2008-07-31
[10]
セラミック銅被覆積層体及びセラミック銅被覆積層体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2023534163A
,2023-08-08
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