ｉｎ－ｓｉｔｕ原子層堆積プロセス[ja]

被引：0

申请号：

JP20210568761

申请日：

2020-03-24

公开(公告)号：

JP2022533388A

公开(公告)日：

2022-07-22

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H01L21/316

IPC分类号：

C23C16/42 H01L21/31 H01L21/318

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法律状态信息

共 50 条

[1]

低温堆積プロセス[ja] [P].

日本专利 :JP2024513402A ,2024-03-25

[2]

選択的原子層堆積方法[ja] [P].

日本专利 :JP2021521639A ,2021-08-26

[3]

選択的原子層堆積方法[ja] [P].

BHASKAR JYOTI BHUYAN ;

MARK SALY ;

DAVID THOMPSON ;

TOBIN KAUFMAN-OSBORN ;

KURT FREDRICKSON ;

THOMAS KNISLEY ;

WU LIQI .

日本专利 :JP2022091739A ,2022-06-21

[4]

熱原子層エッチングプロセス[ja] [P].

TOM E BROMBERG ;

ZHU CHI-YU ;

MARKO J TUOMINEN ;

SUVI P HAUKKA ;

VARUN SHARMA .

日本专利 :JP2025106363A ,2025-07-15

[5]

熱原子層エッチングプロセス[ja] [P].

TOM E BROMBERG ;

ZHU CHI-YU ;

MARKO J TUOMINEN ;

SUVI P HAUKKA ;

VARUN SHARMA .

日本专利 :JP2022043274A ,2022-03-15

[6]

熱原子層エッチングプロセス[ja] [P].

TOM E BROMBERG ;

ZHU CHI-YU ;

MARKO J TUOMINEN ;

SUVI P HAUKKA ;

VARUN SHARMA .

日本专利 :JP2022185111A ,2022-12-13

[7]

熱原子層エッチングプロセス[ja] [P].

日本专利 :JP2020501373A ,2020-01-16

[8]

セロハン積層体[ja] [P].

UMEMURA TOSHIKAZU ;

KITANO KATSUHISA ;

NAGANO RYOJI .

日本专利 :JP2024039713A ,2024-03-25

[9]

ケイ素含有膜の高温原子層堆積[ja] [P].

日本专利 :JP2022504232A ,2022-01-13

[10]

高温酸化ケイ素原子層堆積技術[ja] [P].

日本专利 :JP2017531920A ,2017-10-26

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