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放射性同位体の量産化のための植え込みおよび回収方法および装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20200520141
申请日
:
2018-09-13
公开(公告)号
:
JP7220710B2
公开(公告)日
:
2023-02-10
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G21G1/08
IPC分类号
:
G21C17/10
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
放射性同位体の量産化のための植え込みおよび回収方法および装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2020537133A
,2020-12-17
[2]
放射性同位体製造方法および放射性同位体製造装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7258736B2
,2023-04-17
[3]
放射性同位体製造装置および放射性同位体製造方法[ja]
[P].
MIYADERA HARUO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOSHIBA CORP
TOSHIBA CORP
MIYADERA HARUO
;
OMIKA SHUNICHIRO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOSHIBA CORP
TOSHIBA CORP
OMIKA SHUNICHIRO
;
FUJIMAKI TAKURO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOSHIBA CORP
TOSHIBA CORP
FUJIMAKI TAKURO
;
NAKAGOMI HIROSHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOSHIBA CORP
TOSHIBA CORP
NAKAGOMI HIROSHI
;
WADA REIJI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOSHIBA CORP
TOSHIBA CORP
WADA REIJI
;
NAKAI YUKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOSHIBA CORP
TOSHIBA CORP
NAKAI YUKI
.
日本专利
:JP2024016456A
,2024-02-07
[4]
放射性同位体の製造装置及び放射性同位体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7407097B2
,2023-12-28
[5]
放射性同位体の製造装置及び放射性同位体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7426327B2
,2024-02-01
[6]
安全な放射性同位体調製および注入のためのシステム[ja]
[P].
日本专利
:JP6995746B2
,2022-02-04
[7]
安全な放射性同位体調製および注入のためのシステム[ja]
[P].
日本专利
:JP7066799B2
,2022-05-13
[8]
安全な放射性同位体調製および注入のためのシステム[ja]
[P].
日本专利
:JP2018529969A
,2018-10-11
[9]
放射性のPdの回収方法、および、Pdの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6707250B2
,2020-06-10
[10]
放射性同位体の製造方法、放射性同位体製造装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019088113A1
,2020-11-12
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