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懸架する二次元ナノ材料の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20190010336
申请日
:
2019-01-24
公开(公告)号
:
JP6666484B2
公开(公告)日
:
2020-03-13
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C01B32/194
IPC分类号
:
B82Y40/00
C01B32/168
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
二次元材料を製造する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7045754B2
,2022-04-01
[2]
二次元材料を製造する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7383669B2
,2023-11-20
[3]
二次元材料を製造する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2018527471A
,2018-09-20
[4]
二次元ナノ材料を形成するプロセス[ja]
[P].
日本专利
:JP6392195B2
,2018-09-19
[5]
二次元ナノ材料を特徴付ける方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6408072B2
,2018-10-17
[6]
二次元材料を製造するための化学蒸着方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6934020B2
,2021-09-08
[7]
二次元材料を製造するための化学蒸着方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2019522106A
,2019-08-08
[8]
六方晶構造の二次元膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2020506150A
,2020-02-27
[9]
六方晶構造の二次元膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7341059B2
,2023-09-08
[10]
二次元放射線検出器の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6163936B2
,2017-07-19
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