懸架する二次元ナノ材料の製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20190010336
申请日
2019-01-24
公开(公告)号
JP6666484B2
公开(公告)日
2020-03-13
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C01B32/194
IPC分类号
B82Y40/00 C01B32/168
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
二次元材料を製造する方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7045754B2 ,2022-04-01
[2]
二次元材料を製造する方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7383669B2 ,2023-11-20
[3]
二次元材料を製造する方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2018527471A ,2018-09-20
[4]
二次元ナノ材料を形成するプロセス[ja] [P]. 
日本专利 :JP6392195B2 ,2018-09-19
[5]
二次元ナノ材料を特徴付ける方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6408072B2 ,2018-10-17
[6]
二次元材料を製造するための化学蒸着方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6934020B2 ,2021-09-08
[7]
二次元材料を製造するための化学蒸着方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2019522106A ,2019-08-08
[8]
六方晶構造の二次元膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2020506150A ,2020-02-27
[9]
六方晶構造の二次元膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7341059B2 ,2023-09-08
[10]
二次元放射線検出器の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6163936B2 ,2017-07-19