密閉室及びそれを備える質量分析装置[ja]

被引：0

申请号：

JP20160005130U

申请日：

2016-10-25

公开(公告)号：

JP3208331U

公开(公告)日：

2017-01-05

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H01J49/24

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共 50 条

[1]

増幅回路およびそれを備える質量分析装置[ja] [P].

OHARA TAKUYA ;

NISHIMOTO TAKUMA ;

FURUYA ISAO .

日本专利 :JP2024082786A ,2024-06-20

[2]

前処理装置及びそれを備えた質量分析装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010150842A1 ,2012-12-10

[3]

イオン源、およびそれを備える質量分析装置[ja] [P].

日本专利 :JP5777062B2 ,2015-09-09

[4]

イオン源、およびそれを備える質量分析装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010109907A1 ,2012-09-27

[5]

真空装置及びこれを備えた質量分析装置[ja] [P].

日本专利 :JP6323321B2 ,2018-05-16

[6]

恒温装置、及びそれを備えた分析装置[ja] [P].

日本专利 :JP6990908B2 ,2022-02-03

[7]

Ｘ線発生装置及びそれを備える分析装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2018002977A1 ,2018-11-29

[8]

Ｘ線発生装置及びそれを備える分析装置[ja] [P].

日本专利 :JP6873125B2 ,2021-05-19

[9]

サンプリング部及びそれを備えたＩＣＰ質量分析装置[ja] [P].

日本专利 :JP6167969B2 ,2017-07-26

[10]

サンプリング部及びそれを備えたＩＣＰ質量分析装置[ja] [P].

日本专利 :JP6380077B2 ,2018-08-29

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