イオン源、およびそれを備える質量分析装置[ja]

被引：0

申请号：

JP20110505893

申请日：

2010-03-26

公开(公告)号：

JPWO2010109907A1

公开(公告)日：

2012-09-27

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H01J49/06

IPC分类号：

H01J49/10 H01J49/40

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共 50 条

[1]

イオン源、およびそれを備える質量分析装置[ja] [P].

日本专利 :JP5777062B2 ,2015-09-09

[2]

イオン源、これを備えた質量分析装置およびイオンの生成方法[ja] [P].

TERUI YASUSHI ;

MARUOKA KANTARO .

日本专利 :JP2024137097A ,2024-10-07

[3]

増幅回路およびそれを備える質量分析装置[ja] [P].

OHARA TAKUYA ;

NISHIMOTO TAKUMA ;

FURUYA ISAO .

日本专利 :JP2024082786A ,2024-06-20

[4]

質量分析装置および質量分析装置用のイオン源[ja] [P].

日本专利 :JP6874819B2 ,2021-05-19

[5]

質量分析装置、質量分析方法、及びイオン源[ja] [P].

日本专利 :JP6043568B2 ,2016-12-14

[6]

質量分析装置及びそれに用いられるイオン源[ja] [P].

日本专利 :JP5632316B2 ,2014-11-26

[7]

密閉室及びそれを備える質量分析装置[ja] [P].

日本专利 :JP3208331U ,2017-01-05

[8]

イオン源及び質量分析装置[ja] [P].

日本专利 :JP7505611B2 ,2024-06-25

[9]

イオン光学装置および質量分析装置[ja] [P].

日本专利 :JP2018503931A ,2018-02-08

[10]

イオン化装置および質量分析装置[ja] [P].

日本专利 :JP6231308B2 ,2017-11-15

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