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増幅回路およびそれを備える質量分析装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20220196887
申请日
:
2022-12-09
公开(公告)号
:
JP2024082786A
公开(公告)日
:
2024-06-20
发明(设计)人
:
OHARA TAKUYA
NISHIMOTO TAKUMA
FURUYA ISAO
申请人
:
HITACHI HIGH TECH CORP
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H03F1/56
IPC分类号
:
H01J49/02
H03F3/30
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
イオン源、およびそれを備える質量分析装置[ja]
[P].
日本专利
:JP5777062B2
,2015-09-09
[2]
イオン源、およびそれを備える質量分析装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010109907A1
,2012-09-27
[3]
密閉室及びそれを備える質量分析装置[ja]
[P].
日本专利
:JP3208331U
,2017-01-05
[4]
質量分析装置および質量分析方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010044247A1
,2012-03-15
[5]
質量分析装置、および質量分析方法[ja]
[P].
SUGIYAMA MASUYUKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
HITACHI LTD
HITACHI LTD
SUGIYAMA MASUYUKI
;
KUMANO SHUN
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
HITACHI LTD
HITACHI LTD
KUMANO SHUN
;
NOJIMA AKIHIRO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
HITACHI LTD
HITACHI LTD
NOJIMA AKIHIRO
.
日本专利
:JP2024016359A
,2024-02-07
[6]
試料保持具およびそれを備える分析装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6323272B2
,2018-05-16
[7]
試料保持具およびそれを備える分析装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7095547B2
,2022-07-05
[8]
前処理装置及びそれを備えた質量分析装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010150842A1
,2012-12-10
[9]
真空装置及びこれを備えた質量分析装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6323321B2
,2018-05-16
[10]
質量分析装置および質量分析方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012067195A1
,2014-05-19
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