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プレート式反応器を用いた反応生成物の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20090228122
申请日
:
2009-09-30
公开(公告)号
:
JP5691152B2
公开(公告)日
:
2015-04-01
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C07B61/00
IPC分类号
:
B01J8/02
B01J23/88
C07C27/14
C07C45/35
C07C47/22
C07C51/235
C07C51/25
C07C57/05
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
プレート式反応器及び反応生成物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5835420B2
,2015-12-24
[2]
プレート式反応器及び反応生成物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5617213B2
,2014-11-05
[3]
プレート式反応器、その製作方法、及び該反応器を用いる反応生成物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6088120B2
,2017-03-01
[4]
反応生成物製造装置、反応生成物製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7288687B2
,2023-06-08
[5]
反応生成物製造装置、反応生成物製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019225675A1
,2021-07-08
[6]
反応生成物の製造方法[ja]
[P].
TOMITA MITSURU
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
YAMANAKA HUTECH CORP
YAMANAKA HUTECH CORP
TOMITA MITSURU
;
KIMURA NAOTO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
YAMANAKA HUTECH CORP
YAMANAKA HUTECH CORP
KIMURA NAOTO
;
HAMADA YOSHITAKA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
YAMANAKA HUTECH CORP
YAMANAKA HUTECH CORP
HAMADA YOSHITAKA
.
日本专利
:JP2024143040A
,2024-10-11
[7]
反応生成物製造装置及び反応生成物製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7223658B2
,2023-02-16
[8]
求核反応生成物の製造方法及び求核反応生成物製造用反応剤[ja]
[P].
日本专利
:JP7764055B2
,2025-11-05
[9]
反応装置およびそれを用いた反応生成物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7121958B1
,2022-08-19
[10]
光反応性組成物、反応生成物及び反応生成物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019216321A1
,2021-06-17
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