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プレート式反応器及び反応生成物の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20140136234
申请日
:
2014-07-01
公开(公告)号
:
JP5835420B2
公开(公告)日
:
2015-12-24
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
B01J8/02
IPC分类号
:
C07C45/33
C07C47/22
C07C51/21
C07C57/05
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
プレート式反応器及び反応生成物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5617213B2
,2014-11-05
[2]
反応生成物製造装置及び反応生成物製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7223658B2
,2023-02-16
[3]
プレート式反応器を用いた反応生成物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5691152B2
,2015-04-01
[4]
反応生成物製造装置、反応生成物製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7288687B2
,2023-06-08
[5]
反応生成物製造装置、反応生成物製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019225675A1
,2021-07-08
[6]
光反応性組成物、反応生成物及び反応生成物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019216321A1
,2021-06-17
[7]
光反応性組成物、反応生成物及び反応生成物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7224054B2
,2023-02-17
[8]
反応器、反応装置及び反応生成物の生成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6243810B2
,2017-12-06
[9]
プレート式反応器、その製作方法、及び該反応器を用いる反応生成物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6088120B2
,2017-03-01
[10]
求核反応生成物の製造方法及び求核反応生成物製造用反応剤[ja]
[P].
日本专利
:JP7764055B2
,2025-11-05
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