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酸化物半導体薄膜および薄膜トランジスタ[ja]
被引:0
申请号
:
JP20150512959
申请日
:
2014-07-16
公开(公告)号
:
JP5928657B2
公开(公告)日
:
2016-06-01
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/336
IPC分类号
:
C23C14/08
C23C14/34
H01L29/786
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
酸化物半導体薄膜および薄膜トランジスタ[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015008805A1
,2017-03-02
[2]
酸化物半導体薄膜および薄膜トランジスタ[ja]
[P].
日本专利
:JP6107085B2
,2017-04-05
[3]
酸化物半導体薄膜および薄膜トランジスタ[ja]
[P].
日本专利
:JP6376153B2
,2018-08-22
[4]
酸化物半導体薄膜および薄膜トランジスタ[ja]
[P].
日本专利
:JP5966840B2
,2016-08-10
[5]
酸化物半導体薄膜トランジスタ[ja]
[P].
日本专利
:JP7681959B2
,2025-05-23
[6]
金属酸化物半導体の製造方法、金属酸化物半導体および薄膜トランジスタ[ja]
[P].
日本专利
:JP5640323B2
,2014-12-17
[7]
酸化物半導体薄膜、薄膜トランジスタおよびスパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP6753969B2
,2020-09-09
[8]
酸化物半導体薄膜、薄膜トランジスタおよびスパッタリングターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP7625671B1
,2025-02-03
[9]
薄膜トランジスタ、薄膜トランジスタの製造方法および半導体装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013187486A1
,2016-02-08
[10]
酸化物焼結体、酸化物半導体膜及び薄膜トランジスタ[ja]
[P].
日本专利
:JP6305775B2
,2018-04-04
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