共役高分子の製造方法[ja]

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申请号
JP20130541874
申请日
2012-11-02
公开(公告)号
JP5979153B2
公开(公告)日
2016-08-24
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C08G61/12
IPC分类号
H10K99/00
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
共役系高分子の作製方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP5646163B2 ,2014-12-24
[4]
高分子薄膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2017204020A1 ,2019-03-22
[5]
高分子膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2020500974A ,2020-01-16
[6]
高分子膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6947359B2 ,2021-10-13
[7]
高分子品の製造方法[ja] [P]. 
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[8]
高分子膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7113194B2 ,2022-08-05
[9]
高分子薄膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6991485B2 ,2022-01-12
[10]
高分子膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6689076B2 ,2020-04-28