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ルテニウム錯体のジアステレオ選択的な調製方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20160506849
申请日
:
2014-04-01
公开(公告)号
:
JP2016517847A
公开(公告)日
:
2016-06-20
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C07F9/50
IPC分类号
:
B01J31/24
C07D213/38
C07D213/77
C07D215/12
C07D215/38
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
ルテニウム錯体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017056916A1
,2018-07-19
[2]
ルテニウム錯体の製造方法、並びにルテニウム錯体及びこれを用いたジアミンの製造方法[ja]
[P].
MORITA KENTA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
ASAHI KASEI CORP
ASAHI KASEI CORP
MORITA KENTA
;
URAYAMA TEPPEI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
ASAHI KASEI CORP
ASAHI KASEI CORP
URAYAMA TEPPEI
.
日本专利
:JP2023177660A
,2023-12-14
[3]
アンモニアの分解方法及びルテニウム錯体[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019168094A1
,2021-04-15
[4]
有機ルテニウム錯体及び当該ルテニウム錯体を用いたルテニウム薄膜の製造法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008013244A1
,2009-12-17
[5]
ジアステレオ選択的にアルコール化合物を製造する方法及びルテニウム化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP5616976B2
,2014-10-29
[6]
ジアステレオ選択的にアルコール化合物を製造する方法及びルテニウム化合物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012081582A1
,2014-05-22
[7]
ルテニウムまたはオスミウムベースの錯体触媒[ja]
[P].
日本专利
:JP2016527194A
,2016-09-08
[8]
ルテニウム錯体及びアルコール化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2002062809A1
,2004-06-10
[9]
ルテニウム−ジアミン錯体及び光学活性化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5718178B2
,2015-05-13
[10]
ビニルエステルの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2015512868A
,2015-04-30
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