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クリオライトを含有する析出物を除去するためのホウ酸を含まない組成物[ja]
被引:0
申请号
:
JP20200532630
申请日
:
2018-12-07
公开(公告)号
:
JP2021505774A
公开(公告)日
:
2021-02-18
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C23C22/86
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
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:
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共 50 条
[1]
クリオライトを含有する析出物を除去するためのホウ酸を含まない組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP7394761B2
,2023-12-08
[2]
眼を治療するための組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2021533100A
,2021-12-02
[3]
眼を治療するための組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2021533096A
,2021-12-02
[4]
アクリレート化合物を調製するためのパラジウムを含まない方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2024531339A
,2024-08-29
[5]
不純物を含まない金属合金膜を形成するための方法[ja]
[P].
GEETIKA BAJAJ
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0
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机构:
APPLIED MATERIALS INC
APPLIED MATERIALS INC
GEETIKA BAJAJ
;
DARSHAN THAKARE
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机构:
APPLIED MATERIALS INC
APPLIED MATERIALS INC
DARSHAN THAKARE
;
PRERNA GORADIA
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机构:
APPLIED MATERIALS INC
APPLIED MATERIALS INC
PRERNA GORADIA
;
ROBERT JAN VISSER
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机构:
APPLIED MATERIALS INC
APPLIED MATERIALS INC
ROBERT JAN VISSER
;
YANG YIXIONG
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机构:
APPLIED MATERIALS INC
APPLIED MATERIALS INC
YANG YIXIONG
;
JACQUELINE S WRENCH
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机构:
APPLIED MATERIALS INC
APPLIED MATERIALS INC
JACQUELINE S WRENCH
;
SRINIVAS GANDIKOTA
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0
机构:
APPLIED MATERIALS INC
APPLIED MATERIALS INC
SRINIVAS GANDIKOTA
.
日本专利
:JP2025081314A
,2025-05-27
[6]
不純物を含まない金属合金膜を形成するための方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2023537931A
,2023-09-06
[7]
シリカまたは金属ケイ酸塩析出物を抑制または除去するためのフルオロ無機物[ja]
[P].
日本专利
:JP2017535408A
,2017-11-30
[8]
水吸着を向上させるゼオライトを含有するポリマー組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2022526394A
,2022-05-24
[9]
水吸着を向上させるゼオライトを含有するポリマー組成物[ja]
[P].
ZAKARIA TAHRAOUI
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机构:
CSP TECHNOLOGIES INC
CSP TECHNOLOGIES INC
ZAKARIA TAHRAOUI
;
PATRICE FORLER
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机构:
CSP TECHNOLOGIES INC
CSP TECHNOLOGIES INC
PATRICE FORLER
;
JEAN DAOU
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机构:
CSP TECHNOLOGIES INC
CSP TECHNOLOGIES INC
JEAN DAOU
;
CLAIRE MARICHAL
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机构:
CSP TECHNOLOGIES INC
CSP TECHNOLOGIES INC
CLAIRE MARICHAL
;
HABIBA NOUALI
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机构:
CSP TECHNOLOGIES INC
CSP TECHNOLOGIES INC
HABIBA NOUALI
.
日本专利
:JP2025111775A
,2025-07-30
[10]
腐食を抑制するための組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2018515689A
,2018-06-14
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