不純物を含まない金属合金膜を形成するための方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20250008129

申请日：

2025-01-21

公开(公告)号：

JP2025081314A

公开(公告)日：

2025-05-27

发明(设计)人：

GEETIKA BAJAJ DARSHAN THAKARE PRERNA GORADIA ROBERT JAN VISSER YANG YIXIONG JACQUELINE S WRENCH SRINIVAS GANDIKOTA

申请人：

APPLIED MATERIALS INC

申请人地址：

IPC主分类号：

C23C16/455

IPC分类号：

C07F7/08 C23C16/08 H01L21/285

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

不純物を含まない金属合金膜を形成するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2023537931A ,2023-09-06

[2]

複雑な形状を有する金属合金部品を製造するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022185044A ,2022-12-13

[3]

複雑な形状を有する金属合金部品を製造するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2020512502A ,2020-04-23

[4]

クリオライトを含有する析出物を除去するためのホウ酸を含まない組成物[ja] [P].

日本专利 :JP2021505774A ,2021-02-18

[5]

合金を処理するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2016513184A ,2016-05-12

[6]

好ましい形態を有する不純物含有カソード材料及び不純物含有金属炭酸塩から調製するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2017536654A ,2017-12-07

[7]

金属部品を接合するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022534113A ,2022-07-27

[8]

フッ化物を含まないジルコニウムをベースとする不動態化のための金属前処理[ja] [P].

日本专利 :JP2019513892A ,2019-05-30

[9]

基板表面の活性化を含む基板表面に金属または金属合金を析出させるための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2019515138A ,2019-06-06

[10]

基板表面の活性化を含む基板表面に金属または金属合金を析出させるための方法[ja] [P].

日本专利 :JP6926120B2 ,2021-08-25

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