ハライドシラン化合物及び組成物並びにそれを使用してケイ素含有膜を堆積するためのプロセス[ja]

被引：0

申请号：

JP20170564891

申请日：

2016-06-14

公开(公告)号：

JP2018524808A

公开(公告)日：

2018-08-30

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H01L21/318

IPC分类号：

C01B21/068 C01B33/02 C01B33/107 C23C16/24 C23C16/42 C23C16/455 C23C16/50 H01L21/205 H01L21/31

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

ハライドシラン化合物及び組成物並びにそれを使用してケイ素含有膜を堆積するためのプロセス[ja] [P].

日本专利 :JP6959147B2 ,2021-11-02

[2]

ケイ素化合物、及びそのケイ素化合物を使用する膜を堆積するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP7568714B2 ,2024-10-16

[3]

ケイ素化合物、及びそのケイ素化合物を使用する膜を堆積するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022544951A ,2022-10-24

[4]

ケイ素前駆体化合物、ケイ素前駆体化合物を含むケイ素含有膜を形成するための組成物、及びケイ素含有膜を形成するための組成物を使用して膜を形成するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2024527743A ,2024-07-26

[5]

ケイ素含有膜の堆積のための組成物及びそれを使用した方法[ja] [P].

日本专利 :JP2017535077A ,2017-11-24

[6]

ケイ素含有膜の堆積のための組成物及びそれを使用した方法[ja] [P].

日本专利 :JP2019507956A ,2019-03-22

[7]

組成物、及びケイ素含有膜の堆積のための組成物を使用する方法[ja] [P].

日本专利 :JP2021527331A ,2021-10-11

[8]

組成物、及びケイ素含有膜の堆積のための組成物を使用する方法[ja] [P].

ROBERT G RIDGEWAY ;

RAYMOND N VRTIS ;

MADHUKAR B RAO .

日本专利 :JP2022161979A ,2022-10-21

[9]

ケイ素含有膜の堆積のためのシラシクロアルカンを含む組成物及びその組成物を使用する方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022542582A ,2022-10-05

[10]

シロキサン組成物、及び前記組成物を使用してケイ素含有膜を堆積させるための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2021527956A ,2021-10-14

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