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共役系高分子と絶縁体高分子を利用した複合高分子半導体およびその製造方法[ja]
被引：0
申请号：
JP20190501922
申请日：
2017-07-13
公开(公告)号：
JP6732096B2
公开(公告)日：
2020-07-29
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
H01L29/786
IPC分类号：
H10K99/00
H01L21/336
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
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