光学素子の製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20110543927

申请日：

2010-09-15

公开(公告)号：

JPWO2011045893A1

公开(公告)日：

2013-03-04

发明(设计)人：

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IPC主分类号：

G02F1/37

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法律状态信息

共 50 条

[1]

成形型、光学素子、及び光学素子の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016208509A1 ,2018-04-05

[2]

光学素子及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014196256A1 ,2017-02-23

[3]

ＧＳＲ素子の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7203400B1 ,2023-01-13

[4]

光学部材の製造方法[ja] [P].

KASHIMOTO KAZUKI ;

SAKATA HIROKI ;

GAHOSHI NAOKI .

日本专利 :JP2024106147A ,2024-08-07

[5]

抵抗変化素子の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2008075414A1 ,2010-04-02

[6]

ＥＳＤ保護素子の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009001649A1 ,2010-08-26

[7]

分析素子チップの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2011161895A1 ,2013-08-19

[8]

抵抗変化素子の製造法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009104789A1 ,2011-06-23

[9]

磁気抵抗効果素子の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014097510A1 ,2017-01-12

[10]

光発電素子及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017017772A1 ,2017-07-27

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