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抵抗変化型メモリ(RRAM)セルフィラメントの電流形成[ja]
被引:0
申请号
:
JP20190503910
申请日
:
2017-05-17
公开(公告)号
:
JP2019527910A
公开(公告)日
:
2019-10-03
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G11C13/00
IPC分类号
:
H01L45/00
H10B99/00
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
抵抗変化型メモリ(RRAM)セルフィラメントを形成するためのマルチステップ電圧[ja]
[P].
日本专利
:JP2019511803A
,2019-04-25
[2]
形成工程不要の抵抗変化型ランダムアクセスメモリ(RRAM)素子[ja]
[P].
日本专利
:JP2025522122A
,2025-07-10
[3]
フィラメント形成が限局された抵抗型メモリ[ja]
[P].
日本专利
:JP2015519750A
,2015-07-09
[4]
酸化物抵抗変化型メモリ[ja]
[P].
日本专利
:JP2021532577A
,2021-11-25
[5]
酸化物抵抗変化型メモリ[ja]
[P].
日本专利
:JP7315651B2
,2023-07-26
[6]
メモリセルおよびメモリセルの形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2015508226A
,2015-03-16
[7]
幾何学的に改良された抵抗変化型メモリ(RRAM)セル及びその形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2018506846A
,2018-03-08
[8]
縦型電界効果トランジスタと集積化された抵抗変化型メモリ・セル[ja]
[P].
日本专利
:JP2023506944A
,2023-02-20
[9]
抵抗スイッチングメモリセル[ja]
[P].
日本专利
:JP2019509619A
,2019-04-04
[10]
抵抗変化素子とそれを用いた抵抗変化型メモリ[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2006013819A1
,2008-05-01
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