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石英ガラス調製時の二酸化ケイ素粉末の蒸気処理[ja]
被引:0
申请号
:
JP20180530537
申请日
:
2016-12-16
公开(公告)号
:
JP2019502634A
公开(公告)日
:
2019-01-31
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C03B20/00
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
石英ガラスの調製における二酸化ケイ素粉末のアンモニア処理[ja]
[P].
日本专利
:JP2019503961A
,2019-02-14
[2]
石英ガラス調製時のケイ素含有量の増大[ja]
[P].
日本专利
:JP6984897B2
,2021-12-22
[3]
石英ガラス調製時のケイ素含有量の増大[ja]
[P].
日本专利
:JP2019502641A
,2019-01-31
[4]
二酸化ケイ素造粒体の炭素含有量の低減および石英ガラス体の調製[ja]
[P].
日本专利
:JP6912098B2
,2021-07-28
[5]
二酸化ケイ素造粒体の炭素含有量の低減および石英ガラス体の調製[ja]
[P].
日本专利
:JP2019502631A
,2019-01-31
[6]
酸化物ガラスの表面処理方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008156177A1
,2010-08-26
[7]
ガス処理方法及び二酸化炭素の処理方法[ja]
[P].
SANO YOSUKE
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
INPEX CORP
INPEX CORP
SANO YOSUKE
;
AKATSUKA HIROMI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
INPEX CORP
INPEX CORP
AKATSUKA HIROMI
.
日本专利
:JP2025035810A
,2025-03-14
[8]
二酸化炭素含有ガスの処理システム、および二酸化炭素含有ガスの処理方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7505817B1
,2024-06-25
[9]
高熱法二酸化ケイ素造粒体からの均質な石英ガラス[ja]
[P].
日本专利
:JP2019502637A
,2019-01-31
[10]
廃ガラスの処理方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2004071685A1
,2006-06-01
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