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二酸化ケイ素造粒体の炭素含有量の低減および石英ガラス体の調製[ja]

被引：0
申请号：
JP20180530493
申请日：
2016-12-16
公开(公告)号：
JP2019502631A
公开(公告)日：
2019-01-31
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
C03B20/00
IPC分类号：
代理机构：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
共 50 条
[1]
二酸化ケイ素造粒体の炭素含有量の低減および石英ガラス体の調製[ja] [P]. 
日本专利 :JP6912098B2 ,2021-07-28
[2]
石英ガラス調製時のケイ素含有量の増大[ja] [P]. 
日本专利 :JP6984897B2 ,2021-12-22
[3]
石英ガラス調製時のケイ素含有量の増大[ja] [P]. 
日本专利 :JP2019502641A ,2019-01-31
[4]
水素および二酸化炭素のガス混合物の製造[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025535783A ,2025-10-28
[5]
石英ガラス調製時の二酸化ケイ素粉末の蒸気処理[ja] [P]. 
日本专利 :JP2019502634A ,2019-01-31
[6]
高熱法二酸化ケイ素造粒体からの均質な石英ガラス[ja] [P]. 
日本专利 :JP2019502637A ,2019-01-31
[7]
二酸化炭素含有ガスの処理システム、および二酸化炭素含有ガスの処理方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7505817B1 ,2024-06-25
[8]
造粒体および造粒体の製造方法[ja] [P]. 
MINAMI KAZUKI ;
OGATA AKIHIRO ;
MIYAMOTO HIROYUKI ;
TAKO YUICHIRO .
日本专利 :JP2024065351A ,2024-05-15
[9]
石英ガラスの調製における二酸化ケイ素粉末のアンモニア処理[ja] [P]. 
日本专利 :JP2019503961A ,2019-02-14
[10]
高い炭素含有量を有する炭素ドープ酸化ケイ素膜および炭化ケイ素膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6999620B2 ,2022-01-18
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