石英ガラス調製時のケイ素含有量の増大[ja]

被引：0

申请号：

JP20180531382

申请日：

2016-12-16

公开(公告)号：

JP2019502641A

公开(公告)日：

2019-01-31

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C03B20/00

IPC分类号：

C03B37/02

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共 50 条

[1]

石英ガラス調製時のケイ素含有量の増大[ja] [P].

日本专利 :JP6984897B2 ,2021-12-22

[2]

石英ガラス調製時の二酸化ケイ素粉末の蒸気処理[ja] [P].

日本专利 :JP2019502634A ,2019-01-31

[3]

二酸化ケイ素造粒体の炭素含有量の低減および石英ガラス体の調製[ja] [P].

日本专利 :JP6912098B2 ,2021-07-28

[4]

二酸化ケイ素造粒体の炭素含有量の低減および石英ガラス体の調製[ja] [P].

日本专利 :JP2019502631A ,2019-01-31

[5]

石英ガラスの調製における二酸化ケイ素粉末のアンモニア処理[ja] [P].

日本专利 :JP2019503961A ,2019-02-14

[6]

高い炭素含有量を有するケイ素含有膜の製造方法[ja] [P].

LEI XINJIAN ;

HAIRPIN CHANDRA ;

KIM MOO-SUNG .

日本专利 :JP2022008973A ,2022-01-14

[7]

ガラス用組成物、低介在物含有量のガラス、その製造方法及び使用[ja] [P].

日本专利 :JP7022838B2 ,2022-02-18

[8]

ガラス用組成物、低介在物含有量のガラス、その製造方法及び使用[ja] [P].

日本专利 :JP2021512843A ,2021-05-20

[9]

水素含有量調節可能な水素と酸素の混合ガス発生装置及びその方法[ja] [P].

日本专利 :JP2024535324A ,2024-09-30

[10]

ガラス小瓶の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2016528144A ,2016-09-15

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