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基板の洗浄方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20060512591
申请日
:
2005-04-21
公开(公告)号
:
JPWO2005104202A1
公开(公告)日
:
2008-03-13
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/304
IPC分类号
:
B08B3/02
B08B7/00
C03C23/00
H01L21/02
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
ガラス基板の洗浄方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014057861A1
,2016-09-05
[2]
基板表面の蒸気洗浄[ja]
[P].
日本专利
:JP2022539027A
,2022-09-07
[3]
金属配線用基板洗浄剤および半導体基板の洗浄方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014168166A1
,2017-02-16
[4]
手洗い食器洗浄の方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2018522119A
,2018-08-09
[5]
土壌の洗浄方法[ja]
[P].
SHIMODA MASARO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
KAO CORP
KAO CORP
SHIMODA MASARO
;
SHIMADA SATOYUKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
KAO CORP
KAO CORP
SHIMADA SATOYUKI
.
日本专利
:JP2024018142A
,2024-02-08
[6]
洗浄方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2021512986A
,2021-05-20
[7]
逆浸透膜の洗浄剤、洗浄液、および洗浄方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5910696B1
,2016-04-27
[8]
銅配線用基板洗浄剤及び銅配線半導体基板の洗浄方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012073909A1
,2014-05-19
[9]
洗浄力の評価装置、洗浄力の評価方法[ja]
[P].
KURITA REI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO METROPOLITAN PUBLIC UNIV CORP
TOKYO METROPOLITAN PUBLIC UNIV CORP
KURITA REI
;
KANEDA AOI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO METROPOLITAN PUBLIC UNIV CORP
TOKYO METROPOLITAN PUBLIC UNIV CORP
KANEDA AOI
.
日本专利
:JP2025042209A
,2025-03-27
[10]
透過膜の洗浄剤及び洗浄方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013179775A1
,2016-01-18
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