ガラス基板の洗浄方法[ja]

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申请号
JP20140540821
申请日
2013-10-03
公开(公告)号
JPWO2014057861A1
公开(公告)日
2016-09-05
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01L21/304
IPC分类号
B08B3/08 C03C23/00 C11D7/08 C11D7/18 C11D17/08 H01L21/027
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
基板の洗浄方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2005104202A1 ,2008-03-13
[2]
銅露出基板の洗浄方法および洗浄システム[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2014178289A1 ,2017-02-23
[3]
基板洗浄方法、基板洗浄システムおよび記憶媒体[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2018128088A1 ,2019-11-07
[4]
半導体デバイス用基板の洗浄方法及び洗浄液[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2009072529A1 ,2011-04-28
[5]
[7]
[9]
半導体素子の洗浄方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2009147948A1 ,2011-10-27
[10]
飛灰の洗浄方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6261706B1 ,2018-01-17