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ガラス基板の洗浄方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20140540821
申请日
:
2013-10-03
公开(公告)号
:
JPWO2014057861A1
公开(公告)日
:
2016-09-05
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/304
IPC分类号
:
B08B3/08
C03C23/00
C11D7/08
C11D7/18
C11D17/08
H01L21/027
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
基板の洗浄方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005104202A1
,2008-03-13
[2]
銅露出基板の洗浄方法および洗浄システム[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014178289A1
,2017-02-23
[3]
基板洗浄方法、基板洗浄システムおよび記憶媒体[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018128088A1
,2019-11-07
[4]
半導体デバイス用基板の洗浄方法及び洗浄液[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009072529A1
,2011-04-28
[5]
半導体基板洗浄システムおよび半導体基板の洗浄方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014133137A1
,2017-02-02
[6]
ガラス基板の加工方法及びガラス基板加工用リンス剤組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2007119775A1
,2009-08-27
[7]
金属配線用基板洗浄剤および半導体基板の洗浄方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014168166A1
,2017-02-16
[8]
ブラインクーラーの洗浄方法及び洗浄装置並びに洗浄液の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6823858B1
,2021-02-03
[9]
半導体素子の洗浄方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009147948A1
,2011-10-27
[10]
飛灰の洗浄方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6261706B1
,2018-01-17
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