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金属配線用基板洗浄剤および半導体基板の洗浄方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20150511275
申请日
:
2014-04-09
公开(公告)号
:
JPWO2014168166A1
公开(公告)日
:
2017-02-16
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/304
IPC分类号
:
C11D3/28
C11D3/33
C11D7/32
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
銅配線用基板洗浄剤及び銅配線半導体基板の洗浄方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012073909A1
,2014-05-19
[2]
半導体基板用洗浄剤および半導体基板表面の処理方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015068823A1
,2017-03-09
[3]
半導体洗浄液および半導体洗浄液の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7402385B1
,2023-12-20
[4]
半導体ウエハの洗浄方法および洗浄装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009099138A1
,2011-05-26
[5]
基板の洗浄方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005104202A1
,2008-03-13
[6]
逆浸透膜の洗浄剤、洗浄液、および洗浄方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5910696B1
,2016-04-27
[7]
洗浄装置および洗浄方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013141177A1
,2015-08-03
[8]
半導体素子の洗浄方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009147948A1
,2011-10-27
[9]
金属用洗浄剤[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011105449A1
,2013-06-20
[10]
透過膜の洗浄剤及び洗浄方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013179775A1
,2016-01-18
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