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非イオン性界面活性剤およびイオン性ポリマーを含む組成物[ja]
被引:0
申请号
:
JP20140536261
申请日
:
2012-10-19
公开(公告)号
:
JP6516354B2
公开(公告)日
:
2019-05-22
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C08L101/14
IPC分类号
:
B01D21/01
C02F1/56
C08K5/06
C08L71/02
D21H17/37
D21H21/10
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[41]
非イオン界面活性剤、及びこれを含有する界面活性剤組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP5694176B2
,2015-04-01
[42]
非イオン界面活性剤、及びこれを含有する界面活性剤組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011049045A1
,2013-03-14
[43]
アニオン性及びカチオン性ポリマーを有する組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2020517669A
,2020-06-18
[44]
非イオン性界面活性剤の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5857167B1
,2016-02-10
[45]
低い指紋視認性を呈する非イオン性界面活性剤を含むコーティング組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP6073804B2
,2017-02-01
[46]
非イオン性界面活性剤の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015170637A1
,2017-04-20
[47]
カチオン性界面活性剤、バイオヘテロポリサッカリド、両性界面活性剤、及び直接染料を含む直接染料組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP5951166B2
,2016-07-13
[48]
低い指紋視認性を呈する重合性非イオン性界面活性剤を含むコーティング組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP6218820B2
,2017-10-25
[49]
低い指紋視認性を呈する重合性非イオン性界面活性剤を含むコーティング組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2015527424A
,2015-09-17
[50]
アニオン性研磨剤を含むCMP組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2024530724A
,2024-08-23
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