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p型シリコンウェーハ中のFe濃度測定方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20170544172
申请日
:
2016-09-05
公开(公告)号
:
JPWO2017061072A1
公开(公告)日
:
2018-02-22
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/66
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
p型シリコンウェーハ中のFe濃度測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6458874B2
,2019-01-30
[2]
p型シリコンウェーハ中のFe濃度測定方法及びSPV測定装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6848850B2
,2021-03-24
[3]
p型シリコンウェーハ中のFe濃度測定方法及びSPV測定装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6848849B2
,2021-03-24
[4]
シリコンウェーハのニッケル濃度測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5614390B2
,2014-10-29
[5]
シリコンウェーハの極低酸素濃度測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6979007B2
,2021-12-08
[6]
シリコンウェーハの抵抗率測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6878188B2
,2021-05-26
[7]
シリコンウェーハの抵抗率測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7487655B2
,2024-05-21
[8]
シリコン単結晶ウエーハの窒素濃度の測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7115456B2
,2022-08-09
[9]
シリコンウェーハ中の重金属不純物固溶限界濃度測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6489442B2
,2019-03-27
[10]
シリコン結晶中の炭素濃度測定方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6838713B2
,2021-03-03
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