p型シリコンウェーハ中のFe濃度測定方法[ja]

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申请号
JP20170544172
申请日
2016-09-05
公开(公告)号
JPWO2017061072A1
公开(公告)日
2018-02-22
发明(设计)人
申请人
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IPC主分类号
H01L21/66
IPC分类号
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
p型シリコンウェーハ中のFe濃度測定方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6458874B2 ,2019-01-30
[4]
シリコンウェーハのニッケル濃度測定方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP5614390B2 ,2014-10-29
[5]
シリコンウェーハの極低酸素濃度測定方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6979007B2 ,2021-12-08
[6]
シリコンウェーハの抵抗率測定方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6878188B2 ,2021-05-26
[7]
シリコンウェーハの抵抗率測定方法[ja] [P]. 
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[8]
[10]
シリコン結晶中の炭素濃度測定方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6838713B2 ,2021-03-03