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半導体強誘電体記憶トランジスタおよびその製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20140519960
申请日
:
2013-05-30
公开(公告)号
:
JPWO2013183547A1
公开(公告)日
:
2016-01-28
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H10B20/00
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
金属酸化物半導体およびその製造方法、半導体素子、薄膜トランジスタ[ja]
[P].
日本专利
:JP5644111B2
,2014-12-24
[2]
金属酸化物半導体およびその製造方法、半導体素子、薄膜トランジスタ[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009081862A1
,2011-05-06
[3]
薄膜トランジスタ、薄膜トランジスタの製造方法および半導体装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013187486A1
,2016-02-08
[4]
強誘電体膜およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013018155A1
,2015-02-23
[5]
半導体記憶装置及び半導体記憶装置の製造方法[ja]
[P].
OKITA YOICHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
FUJITSU SEMICONDUCTOR MEMORY SOLUTION LTD
FUJITSU SEMICONDUCTOR MEMORY SOLUTION LTD
OKITA YOICHI
.
日本专利
:JP2024151467A
,2024-10-25
[6]
薄膜トランジスタとその製造方法および前記薄膜トランジスタを有する半導体装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6004459B1
,2016-10-05
[7]
酸化物強誘電体およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6086419B2
,2017-03-01
[8]
半導体記憶装置及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2006059368A1
,2008-06-05
[9]
薄膜トランジスタ、半導体装置及び薄膜トランジスタの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015151337A1
,2017-04-13
[10]
半導体記憶装置及びその製造方法[ja]
[P].
TAKASHIMA AKIRA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
KIOXIA CORP
KIOXIA CORP
TAKASHIMA AKIRA
;
INO TSUNEHIRO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
KIOXIA CORP
KIOXIA CORP
INO TSUNEHIRO
.
日本专利
:JP2025001169A
,2025-01-08
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