化合物、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20170107503
申请日
2017-05-31
公开(公告)号
JP6996116B2
公开(公告)日
2022-01-17
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
G03F7/004
IPC分类号
C07C219/12 C07D321/10 C08F220/28 G03F7/039 G03F7/20
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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