化合物、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20130247396
申请日
2013-11-29
公开(公告)号
JP6221689B2
公开(公告)日
2017-11-01
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C07D221/14
IPC分类号
C07D279/12 C08F220/12 G03F7/004 G03F7/039 H01L21/027
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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