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化合物、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20130247396
申请日
:
2013-11-29
公开(公告)号
:
JP6221689B2
公开(公告)日
:
2017-11-01
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C07D221/14
IPC分类号
:
C07D279/12
C08F220/12
G03F7/004
G03F7/039
H01L21/027
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
化合物、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7066567B2
,2022-05-13
[2]
レジスト組成物、レジストパターンの製造方法及び化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP6801703B2
,2020-12-16
[3]
化合物、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7353124B2
,2023-09-29
[4]
化合物、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7129272B2
,2022-09-01
[5]
レジスト組成物、レジストパターンの製造方法及び化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP6471535B2
,2019-02-20
[6]
化合物、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022173129A
,2022-11-17
[7]
化合物、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6996116B2
,2022-01-17
[8]
化合物、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7471108B2
,2024-04-19
[9]
化合物、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7057208B2
,2022-04-19
[10]
化合物、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6229280B2
,2017-11-15
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