水素供給装置およびこれを備えたイオンビーム照射装置[ja]

被引：0

申请号：

JP20210114967

申请日：

2021-07-12

公开(公告)号：

JP7276671B2

公开(公告)日：

2023-05-18

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H01J27/02

IPC分类号：

H01J37/08 H01J37/317

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法律状态信息

共 50 条

[1]

イオン源および当該イオン源を備えたイオンビーム照射装置[ja] [P].

日本专利 :JP6083260B2 ,2017-02-22

[2]

イオンビーム照射装置およびイオンビーム照射方法[ja] [P].

ONODA MASATOSHI ;

GOTO RYOSUKE ;

NAGAO YUICHI ;

UI TOSHIMASA .

日本专利 :JP2024048246A ,2024-04-08

[3]

イオンビーム照射装置およびイオンビーム照射方法[ja] [P].

日本专利 :JP7534722B2 ,2024-08-15

[4]

イオンビーム照射方法およびイオンビーム照射装置[ja] [P].

日本专利 :JP6638479B2 ,2020-01-29

[5]

イオンビーム照射装置およびイオンビーム照射方法[ja] [P].

日本专利 :JP6503859B2 ,2019-04-24

[6]

イオンビーム照射装置およびイオンビーム照射装置の運転方法[ja] [P].

日本专利 :JP5672297B2 ,2015-02-18

[7]

イオンビーム照射方法及びイオンビーム照射装置[ja] [P].

UCHIDA YUYA ;

KAI HIROAKI .

日本专利 :JP2024139099A ,2024-10-09

[8]

リボン状イオンビームのためのイオンビーム偏向マグネットおよびそれを備えるイオンビーム照射装置[ja] [P].

日本专利 :JP5655881B2 ,2015-01-21

[9]

超高圧水銀ランプおよびこれを備えた紫外線照射装置[ja] [P].

日本专利 :JP6006961B2 ,2016-10-12

[10]

イオンビーム照射装置[ja] [P].

日本专利 :JP6944652B2 ,2021-10-06

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