エナンチオ選択的プロセス[ja]

被引：0

申请号：

JP20210524045

申请日：

2019-11-01

公开(公告)号：

JP2022512919A

公开(公告)日：

2022-02-07

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C07C239/20

IPC分类号：

C07D311/68 C07F17/00

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共 50 条

[1]

選択的エチレンオリゴマー化におけるプロセス改善[ja] [P].

日本专利 :JP2019517483A ,2019-06-24

[2]

エチレンオリゴマー化プロセス[ja] [P].

日本专利 :JP2024521761A ,2024-06-04

[3]

エチレンオリゴマー化プロセス[ja] [P].

日本专利 :JP2020504751A ,2020-02-13

[4]

エチレンオリゴマー化プロセス[ja] [P].

BROOKE L SMALL ;

ORSON L SYDORA ;

RONALD D KNUDSEN .

日本专利 :JP2025001011A ,2025-01-07

[5]

熱原子層エッチングプロセス[ja] [P].

日本专利 :JP2020501373A ,2020-01-16

[6]

熱原子層エッチングプロセス[ja] [P].

TOM E BROMBERG ;

ZHU CHI-YU ;

MARKO J TUOMINEN ;

SUVI P HAUKKA ;

VARUN SHARMA .

日本专利 :JP2022043274A ,2022-03-15

[7]

熱原子層エッチングプロセス[ja] [P].

TOM E BROMBERG ;

ZHU CHI-YU ;

MARKO J TUOMINEN ;

SUVI P HAUKKA ;

VARUN SHARMA .

日本专利 :JP2022185111A ,2022-12-13

[8]

熱原子層エッチングプロセス[ja] [P].

TOM E BROMBERG ;

ZHU CHI-YU ;

MARKO J TUOMINEN ;

SUVI P HAUKKA ;

VARUN SHARMA .

日本专利 :JP2025106363A ,2025-07-15

[9]

周期的プラズマエッチングプロセス[ja] [P].

日本专利 :JP2024506838A ,2024-02-15

[10]

イオン選択膜、イオン選択電極、イオンセンサ、検体検査装置[ja] [P].

日本专利 :JP2025127435A ,2025-09-01

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