半導体基板からエッチング後または灰化後の残留物を除去するための洗浄剤組成物、およびそれに対応する製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20200531513
申请日
2018-12-05
公开(公告)号
JP7330972B2
公开(公告)日
2023-08-22
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01L21/304
IPC分类号
C11D7/26 C11D7/28 C11D7/32 C11D7/34 C11D7/36 H01L21/308
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
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