処理液冷却装置および基板処理装置[ja]

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申请号
JP20160057858
申请日
2016-03-23
公开(公告)号
JP6654077B2
公开(公告)日
2020-02-26
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01L21/304
IPC分类号
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
処理液冷却装置および基板処理装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6586038B2 ,2019-10-02
[3]
基板処理装置および基板処理方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2007105431A1 ,2009-07-30
[4]
[5]
冷却装置、冷媒処理装置、および冷媒処理方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2017002365A1 ,2018-04-19
[6]
基板処理装置および方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2015072086A1 ,2017-03-16
[7]
冷却装置、および、真空処理装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6348094B2 ,2018-06-27
[8]
冷却装置、及び、基板処理装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP7630970B2 ,2025-02-18
[9]
冷却装置、及び、基板処理装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6353266B2 ,2018-07-04
[10]
基板冷却装置および基板処理システム[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2010067544A1 ,2012-05-17