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薄膜トランジスタ及びその製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20190509580
申请日
:
2018-10-17
公开(公告)号
:
JPWO2019087784A1
公开(公告)日
:
2019-11-14
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L29/786
IPC分类号
:
H01L21/316
H01L21/336
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
薄膜トランジスタ及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025534437A
,2025-10-15
[2]
薄膜トランジスタ及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010047077A1
,2012-03-22
[3]
薄膜トランジスタ及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010044332A1
,2012-03-15
[4]
薄膜トランジスタ及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015068319A1
,2017-03-09
[5]
薄膜トランジスタの製造方法及び薄膜トランジスタ[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010106920A1
,2012-09-20
[6]
薄膜トランジスタ及び薄膜トランジスタの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013141197A1
,2015-08-03
[7]
トランジスタ、トランジスタの製造方法及びその製造装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010098101A1
,2012-08-30
[8]
薄膜トランジスタ基板及び薄膜トランジスタの製造方法[ja]
[P].
TANAKA ATSUSHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
XIAMEN TIANMA TECH CO LTD
XIAMEN TIANMA TECH CO LTD
TANAKA ATSUSHI
;
TAKECHI KAZUE
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
XIAMEN TIANMA TECH CO LTD
XIAMEN TIANMA TECH CO LTD
TAKECHI KAZUE
.
日本专利
:JP2024092934A
,2024-07-08
[9]
トランジスタ、トランジスタの製造方法及びその製造装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010098100A1
,2012-08-30
[10]
薄膜トランジスタ構造及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2020523787A
,2020-08-06
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