レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤[ja]

被引：0

申请号：

JP20110117366

申请日：

2011-05-25

公开(公告)号：

JP5758197B2

公开(公告)日：

2015-08-05

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G03F7/004

IPC分类号：

C07D497/18 C09K3/00 G03F7/039 H01L21/027

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共 50 条

[1]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤[ja] [P].

日本专利 :JP5814072B2 ,2015-11-17

[2]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤[ja] [P].

日本专利 :JP5690653B2 ,2015-03-25

[3]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤[ja] [P].

日本专利 :JP5618877B2 ,2014-11-05

[4]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤[ja] [P].

日本专利 :JP5798792B2 ,2015-10-21

[5]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、酸発生剤及び化合物[ja] [P].

日本专利 :JP6482344B2 ,2019-03-13

[6]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び酸発生剤[ja] [P].

FUJIMOTO YUKI .

日本专利 :JP2025080485A ,2025-05-26

[7]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び酸発生剤[ja] [P].

日本专利 :JP2025138306A ,2025-09-25

[8]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、酸発生剤及び化合物[ja] [P].

日本专利 :JP6518475B2 ,2019-05-22

[9]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び、酸発生剤[ja] [P].

FUJINO AKINARI .

日本专利 :JP2025028744A ,2025-03-03

[10]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び、酸発生剤[ja] [P].

日本专利 :JP7446352B2 ,2024-03-08

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