レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び、酸発生剤[ja]

被引：0

申请号：

JP20240046964

申请日：

2024-03-22

公开(公告)号：

JP2025028744A

公开(公告)日：

2025-03-03

发明(设计)人：

FUJINO AKINARI

申请人：

TOKYO OHKA KOGYO CO LTD

申请人地址：

IPC主分类号：

G03F7/004

IPC分类号：

C07C309/12 C07C309/42 C07C381/12 C07D307/00 C07D333/76 C09K3/00 G03F7/039 G03F7/20

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、酸発生剤及び化合物[ja] [P].

日本专利 :JP6482344B2 ,2019-03-13

[2]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び酸発生剤[ja] [P].

FUJIMOTO YUKI .

日本专利 :JP2025080485A ,2025-05-26

[3]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び酸発生剤[ja] [P].

日本专利 :JP2025138306A ,2025-09-25

[4]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、酸発生剤及び化合物[ja] [P].

日本专利 :JP6518475B2 ,2019-05-22

[5]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び、酸発生剤[ja] [P].

日本专利 :JP7446352B2 ,2024-03-08

[6]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び酸発生剤[ja] [P].

日本专利 :JP7507993B1 ,2024-06-28

[7]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び酸発生剤[ja] [P].

日本专利 :JP7466782B2 ,2024-04-12

[8]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び酸発生剤[ja] [P].

日本专利 :JP2025138411A ,2025-09-25

[9]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び酸発生剤[ja] [P].

日本专利 :JP2025138538A ,2025-09-25

[10]

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び酸発生剤[ja] [P].

日本专利 :JP7558440B1 ,2024-09-30

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