共 50 条
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レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び酸発生剤[ja]
被引：0
申请号：
JP20240037489
申请日：
2024-03-11
公开(公告)号：
JP7507993B1
公开(公告)日：
2024-06-28
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
G03F7/004
IPC分类号：
G03F7/039
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
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