細菌培養用ガス濃度調整剤及びこれを用いた細菌の培養方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20190053078

申请日：

2019-03-20

公开(公告)号：

JP6593564B1

公开(公告)日：

2019-10-23

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C12M1/04

IPC分类号：

B01J23/745 C01B32/30 C01B32/50 C12N1/20

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共 50 条

[1]

微細藻類の培養方法及び微細藻類の培養装置[ja] [P].

AMBO TAKANORI ;

TAKEUCHI MASATO ;

NAKAHARA SADAHITO ;

YAMAMURA HIROSHI ;

HARAYAMA SHIGEAKI .

日本专利 :JP2024133979A ,2024-10-03

[2]

マンガン酸化細菌の集積培養方法、バイオマンガン酸化物の生成方法及び金属の回収方法[ja] [P].

日本专利 :JP6719092B2 ,2020-07-08

[3]

藻類、特に微細藻類を培養するための新規な方法[ja] [P].

日本专利 :JP2017525374A ,2017-09-07

[4]

研磨剤及びこの研磨剤を用いた基板の研磨方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009131133A1 ,2011-08-18

[5]

ＬＥＤ装置用封止剤、及びこれを用いたＬＥＤ装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014091762A1 ,2017-01-05

[6]

排ガス浄化用触媒、及びこれを用いた排ガス浄化装置[ja] [P].

FUJIMURA YUDAI ;

SUGIURA KEI .

日本专利 :JP2024104200A ,2024-08-02

[7]

ＣＭＰ用研磨液、及び、これを用いた研磨方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016140246A1 ,2017-12-07

[8]

研磨用スラリー及びこれを用いた基板の研磨方法[ja] [P].

日本专利 :JP2015502417A ,2015-01-22

[9]

金属酸化物支持体を用いた乾式改質触媒及びこれを用いた合成ガスの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6724253B2 ,2020-07-15

[10]

金属酸化物支持体を用いた乾式改質触媒及びこれを用いた合成ガスの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2019533576A ,2019-11-21

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