イオン注入装置、イオン源[ja]

被引:0
申请号
JP20190032042
申请日
2019-02-25
公开(公告)号
JP6588175B1
公开(公告)日
2019-10-09
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01J37/317
IPC分类号
H01J27/20
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
イオン注入装置、イオン源[ja] [P]. 
日本专利 :JP7220122B2 ,2023-02-09
[2]
イオン注入装置、イオン源[ja] [P]. 
日本专利 :JP6595734B1 ,2019-10-23
[3]
イオン源、イオン注入装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP7029633B2 ,2022-03-04
[4]
イオン源及びイオン注入装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2018185987A1 ,2019-04-11
[5]
イオン源及びイオン注入装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6375470B1 ,2018-08-15
[6]
イオン源及びイオン注入装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6514425B1 ,2019-05-15
[7]
イオン源及びイオン注入装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP7024936B2 ,2022-02-24
[8]
イオン源及びイオン注入装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2019077970A1 ,2019-11-14
[9]
イオン注入方法、イオン注入装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6969065B2 ,2021-11-24
[10]
イオン注入装置、イオン注入方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7757199B2 ,2025-10-21