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イオン注入装置、イオン源[ja]
被引:0
申请号
:
JP20190105167
申请日
:
2019-06-05
公开(公告)号
:
JP7220122B2
公开(公告)日
:
2023-02-09
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01J37/317
IPC分类号
:
H01J27/18
H01J37/08
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
イオン注入装置、イオン源[ja]
[P].
日本专利
:JP6595734B1
,2019-10-23
[2]
イオン注入装置、イオン源[ja]
[P].
日本专利
:JP6588175B1
,2019-10-09
[3]
イオン源、イオン注入装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7029633B2
,2022-03-04
[4]
イオン源及びイオン注入装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018185987A1
,2019-04-11
[5]
イオン源及びイオン注入装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6375470B1
,2018-08-15
[6]
イオン源及びイオン注入装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6514425B1
,2019-05-15
[7]
イオン源及びイオン注入装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7024936B2
,2022-02-24
[8]
イオン源及びイオン注入装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019077970A1
,2019-11-14
[9]
イオン注入方法、イオン注入装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6969065B2
,2021-11-24
[10]
イオン注入装置、イオン注入方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7757199B2
,2025-10-21
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